本站最新域名 m.boshishuwu.com

    第841章 最后的战役（二）
    
    沪市，张江技术园区。
    
    中微半导体总部的四周，布置了密密麻麻的电网和监控器，安保力量更是配备齐全。
    
    一座不起眼的工厂里，沙领导、郑韩等一众领导，在陆飞的带领下，来到车间外。
    
    隔着玻璃窗，就能看到一个巨型公交车大小的光刻机，身穿防尘服的工作人员正在操控这样的庞然大物，一个工作台完成扫描曝光的同时，另一个工作台也进行对准、调焦、下片等行动。
    
    “因为芯片制造的过程中，并不是一次曝光就可以完成，而是需要经历多次曝光。”
    
    “在曝光完一个区域之后，放置硅晶圆的曝光台就必须快速进行移动，接着曝光下一个需要曝光的区域，想要在这么多次快速移动中实现纳米级别的对准，双工作台就必须做到精度高而且操作时间短，这项技术本来只有ASML有，但现在已经被我们突破了。”
    
    陆飞滔滔不绝，如数家珍。
    
    领导们一言不发，目不转睛地盯着运行中的光刻机，虽然不是第一次见到光刻机，但一想到这是第一台国产的DUV浸润式光刻机，都压不住激动的心情，尽可能地往前靠，想凑得更一些，看得更清楚一些。
    
    “了不起啊，小陆，你们了不起啊。”
    
    沙领导满意道：“我记得是7年前还是8年前，也是在这里，你让我看的是65n干式光刻机，还向我保证绝对能搞出属于我们自己的国产的浸润式光刻机，我本来以为要花10年甚至更长的时间，没想到你给了我们一个大大的惊喜啊！这么快让你们搞出来了！”
    
    “哪里，哪里，领导。”
    
    陆飞露出谦虚而内敛的笑容。
    
    “说说吧，到底是怎么搞出来的？”
    
    沙领导眼里满是赞赏之色。
    
    “其实这并不是逻辑和中微两家的功劳，我们只负责整体的统筹调度和集成研发。”
    
    陆飞笑道：“DUV浸润式光刻机能成功，完完全全归功于参与到整个项目的全体员工、科研人员们，是他们的血汗和信念，才有了今天的光刻机，当然也离不开领导们的支持，地方上的政策，还有相关公司、院校、国企单位的合作。”
    
    顿了顿，“可以说，这台DUV浸润式光刻机凝结了华夏半导体从业人员的智慧和野心，也代表着目前国内光刻机的最高水平，距离国际一线的EUV光刻机，只有一代的代差了。”
    
    “生产7n的良品率是多少？”
    
    郑韩脸上挂着得意的笑容。
    
    毕竟，如此国之重器出自张江技术园区，沪市毫无疑问当得上“华夏半导体之都”。
    
    “不同的芯片不同的良率，但基本能稳定在70%，慢慢调试改进，可以达到80%。”
    
    陆飞比比画画道：“完全可以比肩AMSL，只用4个光罩、4次曝光，就可以达到7n制程工艺。”
    
    沙领导问道：“现在逻辑和华为的手机用的都是7n制程工艺的芯片对吗？”
    
    陆飞点了下头，“没错，7n是目前市面上最先进的制程工艺，不过根据摩尔定律，再过个一两年，就可能突破到5n。”
    
    “5n是不是就需要EUV光刻机了？”
    
    郑韩好奇道。
    
    “有EUV光刻机固然是好，只要一次曝光，一个光罩就能实现7n、5n，但没有EUV光刻机也无妨，有这台DUV浸润式光刻机也可以做到。”
    
    陆飞露出个看似轻松的笑容。
    
    “喔？”
    
    顷刻间，一众领导的目光齐聚于他。
    
   &nb阅读模式加载的章节内容不完整只有一半的内容，请退出阅读模式阅读

阅读模式无法加载图片章节，请推出阅读模式阅读完整内容

『加入书签，方便阅读』