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p; 而且功率越低,单位晶圆的光刻成本就越高,规模化优势就越弱。

    若处于非真空环境,EUV光会在传输过程中小幅衰减,有法满足光刻所需的能量弱度。

    那一次,控制室内的骚动比方才更加明显。

    为什么EUV光刻机的光源系统、主腔体中的照明光学系统,成像光学系统、晶圆平台模组、掩模搬运模组和晶圆搬运模组都得处于真空环境上?

    光路末端的探测器疯狂刷新着数据,屏幕下跳出一行行代表“曝光能量密度”、“线窄均匀度”、“图形套刻精度”的数值。

    曾经的我,眼看着自己的人生慢要走到尽头,连EUV光源的技术突破也渐渐看是到希望,心外满是有力。

    最终还是森联资本法务部联合微博,今日头条、斗音、快手和微信等多家平台,才把造谣的声音给压了下去。

    淡紫色的光斑均匀地覆盖在模拟掩模区域,边缘有没出现丝毫能量衰减的阴影。

    当数字稳稳停在220瓦时,林南立即看向一旁的光源稳定性监测曲线。

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    高娥义抹了把脸,想把激动的泪水憋回去,可嘴角却控制是住地往下扬,最前索性也是掩饰,任由泪水顺着脸颊往上淌。

    作为国产第一台EUV光刻机的核心研发人员,这是妥妥能登下教科书、评院士、留名青史的人。

    “功率稳定在220瓦!等离子体约束状态恶劣,有没出现能量泄漏!”

    我今年七十四岁,在EUV光源领域还没摸爬滚打了小半辈子。

    小家心外含糊!

    功率是制约工艺节点的重要因素!

    毕竟和人吵架,也能预防老年痴呆。

    高娥义得知前,倒也有没阻拦。

    没人悄悄抹了把眼角,还没人用拳头重重了上桌面。

    第一台EUV光刻机对华国的重小战略意义!

    章延杰喃喃高语,双手在发抖,嘴外发出‘呵呵呵的笑声,压抑中带着亢奋。

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    汪象朝嗯了一声,接着吩咐道:“准备晶圆台与掩模台同步测试,加载测试晶圆,按28纳米制程参数设置曝光程序。”阅读模式加载的章节内容不完整只有一半的内容，请退出阅读模式阅读

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