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‘眼睛’,它需要将掩膜版上的电路图形以亚微米级精度投影到晶圆上。
这里,我们使用了多组高精度光学透镜,并通过自研的非球面加工技术,将透镜表面误差控制在0.05微米以内。”
“掩膜版的制造同样是一项极具挑战的技术。为了避免电路图形的边缘模糊,我们设计了一种纳米级镀膜工艺,确保掩膜版的线条宽度误差不超过9纳米。”
台下的支持派代表们听到这里,忍不住交头接耳。
一位汉斯代表惊叹道:“这已经是顶尖的技术水准了!我们自己的光刻机还在解决透镜稳定性的问题,他们居然已经做到这种程度?”
瑞士代表则低声说道:“他们的光刻机不仅可行,还有独特的技术创新点,这绝不是简单的模仿。”阅读模式加载的章节内容不完整只有一半的内容,请退出阅读模式阅读
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