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与AS-ML已经可量产的14nm芯片制备工艺还有一个版本的差距，但也标志着大夏光刻机的飞跃进步，正在逐渐减少与AS-ML公司差距。

    目前大夏市场的半导体销售占了全球的三分之一，半导体进口替代需求迫切——”

    这位专家还未说完，首座上的那位先生便打断了他的讲话。

    “光刻机很难做吗？还是很好做？大夏能够反超我们吗？我需要你现在告诉我这些事，而不是分析市场，难道你要教我经商？”

    虽然这位已经入住白房子有段时间了，但还是有专家顾问不太适应这位的处事方式。

    但，又能怎么样呢？

    他可是能决定自己去留的人。

    这位半导体行业专家翻过了几页文件，十分朔实的回答道：“高端的光刻机都是由熟万个精密零件、几百个执行器传感器，还有成千上万行代码组成的超复杂思维系统。

    它的内部运动精度误差不超过一根头发丝的千分之一。

    阿斯麦AS-ML是当今全球唯一一家高端光刻机制造商，每年仅出20台左右高端设备。

    目前AS-ML实验室已经攻克了7纳米光刻机的关键技术，所以大夏企业要实现光刻机和芯片对我们的反超，还需要十年到二十年左右的时间。

    值得注意是，据媒体报道：目前在大夏有不少知名企业都在开始研究，或者已经参与芯片领域研发和投资，再加上大夏特殊的制度与扶持，我们的领先地位，或许将在未来的十年内，被其追赶上。”阅读模式加载的章节内容不完整只有一半的内容，请退出阅读模式阅读

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