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    要曝光这样的芯片，必须采用一种特殊的光源，也就是极紫外光。

    它的波长只有13.5纳米，是可见光波长的几十分之一。

    换句话说就是波长越短，雕刻出来的电路越精细，芯片的制程也就越短。

    极紫外光也是用于7nm、5nm、2nm以下先进制程的紫外线波长。

    例如后世最尖端的荷兰阿斯麦光刻机。

    它就是采用极紫外光，所以它能制造出每平方毫米可容纳3.33亿个晶体管的2nm芯片。

    可总结来说，阿斯麦的这台高端光刻机是全球经济化的集大成产品。

    它有超过10万个零部件，并且涉及到5000多个供应商。

    其中光源设备来自丑国，镜头来自德意志蔡司，光学技术由霓虹提供，且都是最最尖端的技术。

    比如高度精密的光学镜头，它是光刻机核心部件之一。

    由德意志光学大师卡尔蔡司制造，号称宇宙中最光滑的人造物体，是衡量一个宇宙文明高度的标志。

    说白了，可以把阿斯麦这台高端光刻机看成是集半个人类文明的科技结晶，至于为什么说是半个，因为少了华夏。

    这也是为什么赵阳并没有直接拿出后世最前沿的光刻机出来。

    毕竟路要一步步走，饭要一口口吃，稳扎稳打才能走的更远！

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    “这部位零件叫恒温加热台，主要负责光刻工艺中的前烘和后烘。”

    “这台部件叫蚀刻机，光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分，就形成了集成电路。”

    赵阳主要是说给非半导体领域的专家院士听，给他们介绍一下，以后还要协助合作呢。

    “这部位叫匀胶机，主要用作光刻胶涂敷，其实就是一个可以控制转速的平台，把硅片吸附在中间那个平台上，滴上光刻胶，高速旋转甩开就可以了。”

    “这个叫掩模版，光刻的精度就是取决于它，掩模上的图案也决定了芯片的电路结构和功能，掩模的制造也十分复杂，不过半自动化下，良品率能有七层，还算不错。”

    “这是汞灯，这是定时曝光系统、这是载片台、这是显微镜、冷却系统（液氮）、配套甩胶机、透镜组、光刻胶、显影液、烘胶台、配套清洗间、废液废气处理回收系统、黄光灯管....”

    赵阳在给大家伙大致的讲解了这台光刻机的情况后，跟着又道：“这台光刻机是半自动操作，需要技术人员配合进行，下面我将实操生产一枚芯片，请大家集中注意力观看！”

    光刻机根据不同的发展阶段也分为手动、半自动、全自动。

    手动光刻机指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的x轴，y轴和t角度来完成对准，对准精度可想而知不高了。

    半自动光刻机指的是对准可以通过电动轴根据CCd进行定位调谐，相比手动，精度得到了大幅度提升。

    自动光刻机指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，其执行精度毫无疑问远超前两者。

    赵阳拿出的这台光刻机是属于半自动的。

    虽说第四代计算机也拿出来了，他完全可以拿全自动的出来。

    但赵阳这么做也是经过考量的。

    主席同志曾说过，理论要结合实践。

    所以他特意把半自动提升全自动的这部分工作内容留给在场这帮‘学生们’。

    就当是他们学习完理论知识后实践的第一步，也能起到锻炼队伍的作用。

    现场，大约五六十人正聚精会神看着赵阳一举一动，瞪大了眼睛，丝毫细节都不放过。

    只见赵阳一脸认真专注的把一片硅基片放入清洗机器上，基片的清洁度决定了后续加工的准确性和精度。

    等清洗完毕，赵阳小心把基片夹出，然后放入匀胶机的转速平台上，进行光刻胶涂敷工作。

    也不大会，在光刻胶涂敷完毕，下一步硅基片则进入曝光室内，这里就需要赵阳亲手微操，通过控制系统将激光线投射到光刻胶上，从而制造出所需的图案和结构。

    这一过程持续二十多分钟，房间内一片安静。

    大家伙大气都不敢踹，全都屏住了呼吸，生怕引起一点异动惊扰到了赵阳，导致芯片制造失败。

    而在完成了曝光之后，下一步骤就是将光刻胶进行显影，以去除未曝光的部分。

    在把基片转入到显影液中浸泡光刻胶，这时候就是等待了，这个过程约莫十分钟左右。

    赵阳这时候趁机转过头，朝向大家伙讲解道：“我制作的这片硅基芯片所采用的制程是一微米，良品率能有百分之九十左右，而它最高能制作0.4微米，也就是400纳米制程的芯片，良品率在百分之七十五到八十之间，如果是全自动化，我预计这个良品率还能提升约十个百分点。”（1微米等于1000纳米）

    赵阳刚刚说的无论是一微米制程还是四百纳米制程并不是说芯片整体外观大小。

    而是在芯片上光刻布置的元器件的间距，换句话说也就是晶体管之间的距离。

    间距越小，同等面积的芯片上晶体管能容纳的数量就越多。

    通俗形容，就是一微米制程，就是晶体管之间的距离是一微米。

    后世无论是七纳米制程还是五纳米制程，指得也是晶体管只见的距离只有七纳米或五纳米。

    不出所料，赵阳所说这台光刻机的结论语引发了在场不少人的惊叹。

    很快，随着赵阳取出浸泡之后的硅基片，接着将其放入清洗设备内进行清洗，把上边的显影液和其它污染物给洗干净。

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