返回第七百三十二章 先发优势,光刻原理!  四合院:让你接济贾家,你竟全送入狱首页

关灯 护眼     字体:

上一页 目录 下一章

本站最新域名 m.boshishuwu.com


    这个底片有一个专业名称,叫做掩膜。

    这里的相片纸就是制造芯片的基底材料硅晶圆。

    曝光后得到的最终照片就是芯片。

    光刻机的基本结构也不复杂。

    最关键的部件只有三个:光源发射器、用来调整光路和聚焦的光学镜头,以及放置硅晶圆的曝光台。

    让光刻机真正复杂起来的是随着芯片上晶体管数量集成越来越多,甚至可以说是呈指数级增长。

    相应地,光刻机的精度也必须越来越高。

    用后世华为的麒麟7纳米芯片举例。

    生产这样的芯片,要用最先进的极紫外光刻机。

    把光想象成一把刻刀的话,那么光波越短,这把刻刀就越锋利。

    1纳米等于百万分之一毫米,7纳米芯片意味着,它的每个元器件之间,只允许有几纳米的间隔距离,相当于一根头发丝粗细的万分之一。阅读模式加载的章节内容不完整只有一半的内容,请退出阅读模式阅读

阅读模式无法加载图片章节,请推出阅读模式阅读完整内容

『加入书签,方便阅读』

上一页 目录 下一章

博仕书屋阅读榜

博仕书屋新书推荐