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    “怎么可能！”
    
    各大晶圆厂难以置信。
    
    阿斯麦也同样感到了匪夷所思。
    
    安布雷拉设计出14n的芯片是没有任何人怀疑。
    
    现在大家用的EDA可都是他们优化的。
    
    可特么前面量产20n已经够夸张了，现在14n都出来了？
    
    三年前就有了20n级别的工艺！到现在才正式突破14n，这其中可并不单单造出来就行了，还有着良品率等一系列问题来保证不会亏本，来保证有盈利！
    
    这其中要攻克的技术，要克服的难点只有他们这些一路走来的晶圆厂才心中清楚！
    
    而且看样子是已经开始量产并备货了！
    
    怎么可能这么快？
    
    前面20n的产量就很夸张了？为何能这样？
    
    随着安布雷拉的DUV光刻机逐渐到货后，各方面也都开始发现了原因。
    
    看到还是干式光刻机其实他们都有点懵。
    
    本以为安布雷拉是也突破了浸润光刻法才追上的，结果人家浸润的技术都还没用出来！
    
    纯粹靠着强大的镜头硬生生的完成了弯道追赶。
    
    光源波长和各种参数都是摆在这里的，他们能够轻易算出这台光刻机极限精度达不到阿斯麦的水平。
    
    多次曝光也很难达到7n极限。
    
    可是……
    
    “感觉这台光刻机的良品率好高啊，我们还只是随便组了一下试试，调试都没用多久，良品率方面竟然就不比正常生产线要差了。”
    
    积电的工程师满脸惊叹。
    
    “是啊，就性价比来说，比目前阿斯麦的光刻机还要好，而且良品率方面恐怕能一直保持领先，虽说阿斯麦的光刻机极限能更高，但现在不还没到这程度么……”
    
    相同的事也发生在测试的各处。
    
    极限差点，但更稳定，良品率高，效率高，产能高！
    
    这就是安布雷拉满足了供货的原因。
    
    出货效率超过阿斯麦DUA光刻机一倍多！
    
    这也是能一边生产20n芯片，一边开始备货14n的原因！
    
    甚至可以预见，哪怕以后到了10n的程度，也依然难不住他们，大概率安布雷拉自己的晶圆厂可能还能更快的达到这工艺。
    
    这简直是难以置信！
    
    一瞬间抹平了差距，硬生生跻身第一梯队。
    
    收购光刻机技术和晶圆厂才多久？
    
    就达到这种程度了？
    
    只能说不愧是安布雷拉吗！
    
    一时间，大漂亮商务部制裁简直制裁了个寂寞。
    
    这啪啪打脸不可为不响。
    
    可偏偏这时候大漂亮新闻发言人依然还有脸开口警告安布雷拉保持和东方的距离，不要卖过于先进的东西给他们。
    
    这种话简直引起了一片哗然。
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