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还一边打开了手环，形成了一个三维的全息投影简单的介绍道
    
    “大家都知道光刻机的本质就是曝光，DUV光刻机，我们还能找到对应的镜片让深紫外线通过，特别是后来安布雷拉的技术产出的新镜片，更是加强了这一点，安布雷拉自己的光刻机就是利用了这一点弯道超车，在不使用浸润法的情况下超过了我们的效率！”
    
    阿斯麦没有去贬低安布雷拉，甚至还可以说在旁边吹嘘。
    
    因为只有将安布雷拉的强大体现出来，才能说明他们更强！
    
    这是一个强大的对手，但还是输了，输在了我们面前！
    
    “但，这一点对EUV光刻机却是不行，我们使用的13.5n波长极紫外线电离能力极强，没有镜头可以适合这种精度下让这种高能光束通过，所以唯一可以选择的办法，只有反射！”
    
    一边说着，全息图像上也进行了改变，讲解了一下大概的原理。
    
    就是不断利用一些镜片的反射来完成对极紫外线的汇聚。
    
    总共要完成十几次的反射才能达到最后的曝光要求！
    
    “这对于反射镜片的精度需求可以说是极高的，要感谢卡尔蔡司公司在这方面的付出。”
    
    说完就对旁边卡尔蔡司的工程师做出了一个请的手势。
    
    卡尔蔡司公司的工程师也顺势站了出来礼貌的说道
    
    “我们同样利用到了安布雷拉的技术涂层，不过当然，就精度方面，我们还是有点自信的……”
    
    随后，阿斯麦的代表又介绍了他们的EUV光源。
    
    “之前说了，极紫外线需要通过十几次反射才能达到我们的效果，而因为极紫外线的电离消耗，每次反射都会损失大概30%左右的能量，最终我们能够有效利用的光只有大概2%，因此，我们需要光源有着足够且稳定的输出功率，为了克服这个问题Cyr公司可是花费了整整十年的时间来攻克，不过Cyr公司在三年前已经被我们公司完成了收购……”
    
    一边说着，他一边继续外放了全息画面，里面连原理都出来了，就是用高能激光不断轰击液态金属滴，难度和精确度看着他提供的数据就让人头皮发麻。
    
    只是制造出来不难，可要保持稳定和持久，还有足够输出功率的光源，那就要确保每次的撞击都极为精准，且频率要足够高。
    
    不断轰击滴落的金属液滴，各方面稍微有一点失误都是完全不同的。
    
    再后面随着不断的介绍，观众也明白了这台机器是怎么样组合起来的怪物。
    
    大漂亮的光源技术，霓虹的光源转换设备，高卢的阀件，普鲁士的镜头，瑞典的轴承，都需要极为精密，缺一不可，连安装都要极为精细要避开周边环境的轻微震动。
    
    甚至连运输光刻机的车辆，都是某积电的专利技术！
    
    直播到这里，很多观众眼里也就看明白了问题所在。
    
    EUV光刻机绝不是一个两个技术的问题，而是汇聚了全球所有最顶级的科技。
    
    而这些顶级巨头汇聚在一起，就是为了压下安布雷拉公司。
    
    还是直接靠着技术代差，一口气完成碾压的方式！
    
    这本身，也是一种秀肌肉的表现！
    
    如今，主流的芯片工艺才到14n。
    
    然而EUV光刻机的理论极限却是能达到硅基芯片的极限，可以达到1n！
    
    如果能解决隧穿问题，甚至还能更低！
    
    是，这不符合商业规律和利润。
    
    没有慢慢的更新迭代来进行收割。
    
    但没办法，安布雷拉这边杀出来太强了，他们的DUV光刻机性能太好，而且芯片简直就是处于黑盒状态阅读模式加载的章节内容不完整只有一半的内容，请退出阅读模式阅读

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