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话还没有说完,有一位设计研发人员实在忍不住了,站起来打断道,“老板,可是据我所知,现在各行各业广泛应用是第一代IGBT,第二代IGBT还在研发阶段,没有广泛的大量应用,确定我们真的是开始第三代IGBT的设计研发吗。”
胡光凡非常肯定的道,“我已经说的很明白,就是第三代IGBT的设计研发,现在我来和大家讲一讲具体的第三代IGBT的具体的设计。”
说完,将自己准备好的设计图纸挂了出来,展示在大家的面前。
“我们知道,现在的IGBT主要‘贯通型’的设计结构,硅芯片比较厚,5微米到3微米不等.....”
简单的说了第一代IGBT之后,胡光凡道,“第三代IGBT采用的是‘非贯通型’的设计结构,采用硅干法刻蚀技术实现的新刻蚀工艺,硅芯片的重直结构也做了很大的改变......”
大家都是呆呆的!
这真的是第三代IGBT技术,首先设计理念就发生了翻天覆地的变化,从穿通(PT)型技术先进到非穿通(NPT)型技术,这是重大的概念变化。
胡光凡讲的非常专业,也非常的详细。
大家都是这一方面的专业人才,回过神来之后,渐渐的就听懂了,仿佛一扇全新的大门被打开了。
胡光凡足足讲了一上午,中间只休息了二十分钟。
一个上午讲完之后,胡光凡什么时候离开的很多人都不知道,他们还沉浸在第三代IGBT的设计上,那些全新的设计结构,全新的设计理念,深深的震撼着他们,久久都未能回过神来。阅读模式加载的章节内容不完整只有一半的内容,请退出阅读模式阅读
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